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光刻机(胶)概念31日主力净流出5.7亿元，张江高科、强力新材居前

2024-01-31 15:50:40
金融界
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摘要：1月31日，光刻机(胶)概念下跌5.16%，今日主力资金流出5.7亿元，概念股3只上涨，59只下跌。主力资金净流出居前的分别为张江高科（9718.02万元）、强力新材（3410.62万元）、晶方科技（3066.34万元）、赛微电子（3033.95万元）、亚威股份（2927.13万元）。

1月31日，光刻机(胶)概念下跌5.16%，今日主力资金流出5.7亿元，概念股3只上涨，59只下跌。

主力资金净流出居前的分别为张江高科（9718.02万元）、强力新材（3410.62万元）、晶方科技（3066.34万元）、赛微电子（3033.95万元）、亚威股份（2927.13万元）。

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