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光刻机(胶)概念28日主力净流出15.22亿元，张江高科、大族激光居前

2024-02-28 15:46:48
金融界
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摘要：2月28日，光刻机(胶)概念下跌7.74%，今日主力资金流出15.22亿元，概念股1只上涨，63只下跌。主力资金净流出居前的分别为张江高科（2.05亿元）、大族激光（9329.24万元）、强力新材（7241.85万元）、芯源微（7177.0万元）、晶方科技（6604.3万元）。

2月28日，光刻机(胶)概念下跌7.74%，今日主力资金流出15.22亿元，概念股1只上涨，63只下跌。

主力资金净流出居前的分别为张江高科（2.05亿元）、大族激光（9329.24万元）、强力新材（7241.85万元）、芯源微（7177.0万元）、晶方科技（6604.3万元）。

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