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广钢气体申请芯片清洗用亚临界二氧化碳供应系统专利,便于稳定输送

2024-04-08 07:12:37
金融界
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摘要:金融界2024年4月8日消息,据国家知识产权局公告,广州广钢气体能源股份有限公司申请一项名为“芯片清洗用亚临界二氧化碳供应系统“,公开号CN117823817A,申请日期为2024年1月。专利摘要显示,本发明提供芯片清洗用亚临界二氧化碳供应系统。本发明提供的芯片清洗用亚临界二氧化碳供应系统,包括第一输送管路、第二输送管路、调压装置和加热装置,调压装置和加热装置位于第一输送管路和第二输送管路之间,第一输送管路内输送液态二氧化碳,第二输送管路内输送气态二氧化碳,第一输送管路包括依次连通的第一伴冷段和第二伴冷段,第一伴冷段和第二伴冷段之间设置有隔膜泵,第二输送管路采用电伴热,第二输送管路输出的气态二氧化碳温度控制在30℃至40℃,压力控制在51barg至59 barg。本发明提供的芯片清洗用亚临界二氧化碳供应系统通过前端伴冷后端伴热的方式保证亚临界气体的稳定性,便于稳定输送。

金融界2024年4月8日消息,据国家知识产权局公告,广州广钢气体能源股份有限公司申请一项名为“芯片清洗用亚临界二氧化碳供应系统“,公开号CN117823817A,申请日期为2024年1月。

专利摘要显示,本发明提供芯片清洗用亚临界二氧化碳供应系统。本发明提供的芯片清洗用亚临界二氧化碳供应系统,包括第一输送管路、第二输送管路、调压装置和加热装置,调压装置和加热装置位于第一输送管路和第二输送管路之间,第一输送管路内输送液态二氧化碳,第二输送管路内输送气态二氧化碳,第一输送管路包括依次连通的第一伴冷段和第二伴冷段,第一伴冷段和第二伴冷段之间设置有隔膜泵,第二输送管路采用电伴热,第二输送管路输出的气态二氧化碳温度控制在30℃至40℃,压力控制在51barg至59 barg。本发明提供的芯片清洗用亚临界二氧化碳供应系统通过前端伴冷后端伴热的方式保证亚临界气体的稳定性,便于稳定输送。

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