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华为公司申请涂层材料和集成电路及制备方法、电子设备专利,该专利技术能保证涂层材料具有较高成膜性和较佳的抗刻蚀性能

2024-04-05 14:28:41
金融界
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摘要:金融界2024年4月5日消息,据国家知识产权局公告,华为技术有限公司申请一项名为“涂层材料和集成电路及制备方法、电子设备“,公开号CN117820910A,申请日期为2023年1月。专利摘要显示,本申请实施例提供一种涂层材料和集成电路及制备方法、电子设备。涂层材料包括:聚羟基苯乙烯衍生物。聚羟基苯乙烯衍生物至少包括聚羟基苯乙烯和吸光基团,吸光基团用于光的吸收。聚羟基苯乙烯的苯环上的至少一个氢原子被吸光基团取代。与小分子玻璃体系相较,聚羟基苯乙烯衍生物具有较高成膜性和较佳的抗刻蚀性能,因此,可以保证包含该聚羟基苯乙烯衍生物的涂层材料具有较高成膜性和较佳的抗刻蚀性能。进一步的,涂层材料的吸光性能,由聚羟基苯乙烯衍生物中的吸光基团所决定,可以通过调节引入的吸光集团来调节涂层材料n、k值,进而可以保证涂层材料批次间的稳定性。

金融界2024年4月5日消息,据国家知识产权局公告,华为技术有限公司申请一项名为“涂层材料和集成电路及制备方法、电子设备“,公开号CN117820910A,申请日期为2023年1月。

专利摘要显示,本申请实施例提供一种涂层材料和集成电路及制备方法、电子设备。涂层材料包括:聚羟基苯乙烯衍生物。聚羟基苯乙烯衍生物至少包括聚羟基苯乙烯和吸光基团,吸光基团用于光的吸收。聚羟基苯乙烯的苯环上的至少一个氢原子被吸光基团取代。与小分子玻璃体系相较,聚羟基苯乙烯衍生物具有较高成膜性和较佳的抗刻蚀性能,因此,可以保证包含该聚羟基苯乙烯衍生物的涂层材料具有较高成膜性和较佳的抗刻蚀性能。进一步的,涂层材料的吸光性能,由聚羟基苯乙烯衍生物中的吸光基团所决定,可以通过调节引入的吸光集团来调节涂层材料n、k值,进而可以保证涂层材料批次间的稳定性。

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