京东方申请一种晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置专利，改善有源层坡度角过大时上方绝缘层易断裂问题lg...

金融界2025年8月6日消息，国家知识产权局信息显示，京东方科技集团股份有限公司、重庆京东方光电科技有限公司、北京京东方技术开发有限公司申请一项名为“一种晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置”的专利，公开号CN120435062A，申请日期为2024年01月。

专利摘要显示，本发明公开了一种晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置，以改善有源层坡度角过大时，上方绝缘层容易发生断裂，进而导致水汽入侵，致使发生显示不良的问题。所述晶体管包括：衬底，以及位于所述衬底一侧的有源层，以及位于所述有源层背离所述衬底一侧、且与所述有源层直接接触的源漏极层；其中，所述有源层具有与所述源漏极层接触的第一表面，背离所述源漏极层一侧的第二表面，以及连接所述第一表面与所述第二表面的第三表面；所述第三表面与所述第二表面形成的坡度角范围为30°～70°。

天眼查资料显示，京东方科技集团股份有限公司，成立于1993年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3764501.6203万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方科技集团股份有限公司共对外投资了72家企业，参与招投标项目264次，财产线索方面有商标信息776条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可48个。

重庆京东方光电科技有限公司，成立于2013年，位于重庆市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本384520万人民币。通过天眼查大数据分析，重庆京东方光电科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目280次，专利信息1216条，此外企业还拥有行政许可63个。

北京京东方技术开发有限公司，成立于2016年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3800万人民币。通过天眼查大数据分析，北京京东方技术开发有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目91次，专利信息3261条，此外企业还拥有行政许可4个。