盼国产28nm光刻机突破,还要期盼国产EUV光刻机实现突破。不过笔者相信,28nm光刻机不是我们的终点,而是起点。 除了光刻机,在其他半导体设备领域,我们与国外还存在一定差距,目前仅中微公司主攻的刻蚀设备到了5nm工艺制程水平,其余还停留在14nm,设备公司还需要共度时艰,加大研发投入去攻关。 国内光刻机产业链相关上市公司 数据来源:各公司公告 而除了设备领域,电子化学品、EDA等等都是有待突破的地方,此前华为表示攻克了14nm以上EDA全流程,更先进的7nm、5nm还有待攻克,电子化学品领域,高端EUV光刻胶被日本垄断,此前日本已经迫于美国淫威开始对高端半导体设备、EUV光刻胶等的出口进行管制,也就是说在极端封锁的环境下,往5nm以下更先进制程迈进,还需要国产EUV光刻机、EUV光刻胶、EDA软件等实现突破,这个当然还需要时间,不是短时间能够解决的,但华为带着5G回来了,同样也带着半导体的希望回来了,至少我们并不会止步不前,我们还在奋力追赶。 本报告仅提供给九方金融研究所的特定客户及其他专业人士,用于市场研究、讨论和交流之目的。 未经九方金融研究所事先书面同意,不得更改或以任何方式传送、复印或派发本报告的材料、内容及其复印本予以任何第三方。如需引用、或经同意刊发,需注明出处为九方金融研究所,且不得对本报告进行有悖于原意的引用、删节和修改。 本报告由研究助理协助资料整理,由投资顾问撰写。本报告的信息均来源于市场公开消息和数据整理,本公司对报告内容(含公开信息)的准确性、完整性、及时性、有效性和适用性等不做任何陈述和保证。本公司已力求报告内容客观、公正,但报告中的观点、结论和建议仅反映撰写者在报告发出当日的设想、见解和分析方法应仅供参考。同时,本公司可发布其他与本报告所载资料不一致及结论有所不同的报告。本报告中的信息或意见不构成交易品种的买卖指令或买卖出价,投资者应自主进行投资决策,据此做出的任何投资决策与本公司或作者无关,自行承担风险,本公司和作者不因此承担任何法律责任。 投资顾问:黄波(登记编号:A0740620120007) 来源:金色财经lg...